臺(tái)積電1nm制程廠或?qū)⒙涞靥覉@龍?zhí)?2027年有望量產(chǎn) 

    芯片越來(lái)越精微，很多人認(rèn)為摩爾定律未來(lái)不久就會(huì)時(shí)效。不過(guò)，芯片廠商仍然在不斷探索物理世界的極限，從3nm工藝到2nm工藝，從2nm工藝到1.4nm工藝，再?gòu)?.4nm工藝到1nm工藝，后者被視為摩爾定律的物理極限。

    10月31日消息，據(jù)臺(tái)灣《工商時(shí)報(bào)》報(bào)道，繼竹科2nm廠之后，臺(tái)積電將啟動(dòng)先導(dǎo)計(jì)劃，預(yù)計(jì)最新2nm以下（1nm）制程擬落腳新竹科學(xué)園區(qū)轄下的桃園龍?zhí)秷@區(qū)。
    對(duì)此，竹科管理局長(zhǎng)王永壯回應(yīng)稱，關(guān)于個(gè)別廠商布局情況，在廠商宣布之前不便透露，但單純以龍?zhí)秷@區(qū)來(lái)說(shuō)，第一期事業(yè)專用區(qū)用地已差不多滿了，第二期主要規(guī)劃為公園、綠地開(kāi)放空間，未來(lái)若有新廠想要進(jìn)駐、設(shè)廠，確實(shí)要展開(kāi)第三期基地評(píng)估規(guī)劃工作。按照這個(gè)情況，臺(tái)積電已經(jīng)為1nm做規(guī)劃了，正式量產(chǎn)1nm工藝可能要到2027年去了。
    而要量產(chǎn)1nm工藝，更先進(jìn)的下一代EUV光刻機(jī)就成為了重中之重。據(jù)悉，ASML的下一代EUV光刻機(jī)試驗(yàn)型號(hào)最快明年出貨，2025年后正式量產(chǎn)，這基本在臺(tái)積電的節(jié)奏之中。不過(guò)，這種EUV光刻機(jī)的售價(jià)將達(dá)到4億美元以上。